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1.
利用热丝化学气相沉积法(HFCVD)在碳化硅基底上制备金刚石薄膜,采用场发射扫描电子显微镜、拉曼光谱仪、原子力显微镜研究了在不同甲烷浓度条件下制备的金刚石薄膜表面形貌及物相组成,在干摩擦条件下通过往复式摩擦磨损实验测试并计算了已制备金刚石薄膜的摩擦系数和磨损率,结合物相分析及摩擦磨损实验结果分析了甲烷浓度的改变对金刚石薄膜摩擦磨损性能的影响。结果表明,由于甲烷气体含量的升高,金刚石薄膜结晶质量下降,薄膜由微米晶向纳米晶转变。摩擦磨损实验结果显示:3%甲烷浓度条件下制备的金刚石薄膜耐磨性较好,磨损率为2.2×10-7 mm3/mN;5%甲烷浓度条件下制备的金刚石薄膜摩擦系数最低(0.032),磨损率为5.7×10-7 mm3/mN,制备的金刚石薄膜的耐磨损性能相比于碳化硅基底(磨损率为9.89×10-5 mm3/mN)提升了两个数量级,显著提高了碳化硅基底的耐磨性。  相似文献   
2.
Transparent conducting ZnO:AI thin films with good adhesion and Iow resistivity have been prepared on organic substrates and Coming 7059 glass substrates by r.f. magnetron-sputtering technique at Iow substrate temperature (25-210℃). Structural and photoelectric properties of the deposited films are investigated. The deposited films are polycrystalline with hexagonal structure and a preferred orientation with the c-axis perpendicular to the substrate. Only the (002) peak is observed.High quality films with resistivity as Iow as 1.0 x 10- 3Ω@ cm and 8.4 x 10- 4Ω@ cm, the average transmittance over 74% and 85% in the wavelength range of the visible spectrum have been obtained on different substrates.  相似文献   
3.
This paper reports that the m-plane GaN layer is grown on (200)-plane LiAlO2 substrate by metal-organic chemical wpour deposition (MOCVD) method. Tetragonal-shaped crystallites appear at the smooth surface. Raman measurement illuminates the compressive stress in the layer which is released with increasing the layer's thickness. The high transmittance (80%), sharp band edge and excitonic absorption peak show that the GaN layer has good optical quality. The donor acceptor pair emission peak located at -3.41 eV with full-width at half maximum of 120 meV and no yellow peaks in the photoluminescence spectra partially show that no Li incorporated into GaN layer from the LiAlO2 substrate.  相似文献   
4.
Results of experimental investigations of the volt-brightness characteristics, frequency dependences of brightness, and the directional radiation pattern of electroluminescent MSDM, MSCM, and MSDCM emitters, where M stands for the first transparent and second nontransparent electrodes, S is a semiconductor, D is a thin-film dielectric, and C is a silicone-based composite liquid dielectric with a powdered segnetoelectric filler, developed on conventional “smooth” and rough glass substrates are presented. It is shown that electroluminescent structures on rough surfaces have a brightness approximately two times higher than that of similar structures developed on a “smooth” substrate. Ul’yanovsk State University, 42, L. Tolstoi St., Ul’yanovsk, 432700, Russia. Translated from Zhurnal Prikladnoi Spektroskopii, Vol. 64, No. 4, pp. 507–512, July–August, 1997.  相似文献   
5.
This paper deals with the small-angle neutron scattering (SANS) investigation on solution-quenched PH13-8 Mo stainless steel. From the nature of the variation of the functionality of the profiles for varying specimen thickness and also from the transmission electron microscopy (TEM), it has been established that the small-angle scattering signal predominantly originates from the block-like metallic carbide precipitates in the specimen. The contribution due to double Bragg reflection is not significant in the present case. The single scattering profile has been extracted from the experimental profiles corresponding to different values of specimen thickness. In order to avoid complexity and non-uniqueness of the multi-parameter minimization for randomly oriented polydisperse block-like precipitate model, the data have been analyzed assuming randomly oriented polydisperse cylindrical particle model with a locked aspect ratio.  相似文献   
6.
本文对以蒸馏水为工质,流过内径和外径分别为168μm、406μm和399μm、798μm的电加热不锈钢管时的换热进行了实验研究。通过对微钢管直接通电进行加热,并采用红外成像仪及专用放大镜头的非接触式方法,获得了各种恒定加热功率及不同雷诺数下的微钢管壁面的温度场分布,进而得到较为精确的壁面平均温度。由此计算了在层流态下的换热系数Nu数。实验结果表明,在层流下,内径为168μm及399μm的微钢管内部的Nu数分别比经典的Hansen准则式所得到的Nu数高出很多。  相似文献   
7.
Si衬底上ZnSe外延膜的低压MOCVD生长   总被引:2,自引:2,他引:0  
以硒化氢(H2Se)和二甲基锌为源材料,生长温度是300℃时,用低压金属有机化学气相沉积(LP-MOCVD)系统在Si(111)衬底上外延生长了ZnSe薄膜。通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜的能量色散(EDS)以及光致发光(PL)实验验证ZnSe外延膜的质量,在X射线衍射谱中只有一个强的ZnSe(111)面衍射峰,这说明外延膜是(111)取向的单晶薄膜,在能量色散谱中除了Si,Zn和Se原子外,没有观测到其他原子,说明ZnSe外延膜中杂质含量较少。ZnSe外延膜中Zn/Se原子比接近1,有较好的化学配比。在ZnSe外延膜的77K光致发光谱中没有观测到与深中心发射相关的发光峰,表明ZnSe外延膜的晶格缺陷密度较小。77K时的近带边发射峰447nm在室温时移至465nm附近。  相似文献   
8.
The oxide films formed on AISI 304L stainless steel at 300 °C in the oxidation time range between 2 and 4 h have been studied by photoelectrochemistry. Photocurrents were investigated as a function of the wavelength of the incident light and the electrode potential. The investigation allowed the determination of the semiconductive properties of the oxides. The oxide films showed n-type behaviour. A duplex structure of the oxide films has been suggested on the basis of the photocurrent spectra, with an internal oxide layer having an optical gap (Eg2 = 2.16-2.3 eV) depending on the applied potential and oxidation time, higher to that of the external oxide layer (Eg1 ≈ 1.9 eV). Significant variations in the amplitude of the photocurrent were detected as a function of the applied potential and the oxidation time.  相似文献   
9.
采用光学显微镜和扫描电子显微镜等手段,对某轻型汽车40Cr后桥半轴断裂件的组织及断口特征进行了分析结果表明:半轴在调质处理时的淬火温度不够高,使其表层和心部组织中存在较多的铁素体相,造成了工件最终的硬度和疲劳强度不足,导致半轴在使用中发生扭转疲劳断裂.  相似文献   
10.
余云鹏  林舜辉  黄翀  林璇英 《物理实验》2004,24(5):37-39,41
在考虑基片与空气界面反射率以及基片吸收不能忽略的情况下,对常见的基片上薄膜的光强透过率公式进行了修正,导出了该情况下的透过率公式.以非晶硅薄膜为研究对象,采用模拟计算说明基片光学特性对薄膜光强透过谱的影响.  相似文献   
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